冠層(ceng)分析儀的使(shi)用要註(zhu)意(yi)這幾(ji)個細節(jie)

　　冠(guan)層分析儀就是(shi)屬(shu)於(yu)光學(xue)法的(de)，特點是(shi)攜(xie)帶(dai)方(fang)便，不需要進(jin)行額外(wai)的(de)資料處(chu)理(li)，可以直(zhi)接給(gei)出(chu)葉面(mian)積指(zhi)數(shu)值(zhi)，原(yuan)理是(shi)在假(jia)定植物冠(guan)層內(nei)的(de)各元(yuan)素(su)隨機(ji)分布(bu)，依據冠層(ceng)間隙(xi)度或光學(xue)特性(xing)反(fan)演(yan)葉面(mian)積指(zhi)數(shu)。缺(que)點是(shi)測(ce)量所(suo)得葉面(mian)積指(zhi)數(shu)有(you)著(zhe)較(jiao)大(da)的(de)偏差。葉片(pian)的聚集效應越強，偏差越大(da)。因(yin)此在測(ce)量時，壹般需要用(yong)直(zhi)接法校(xiao)正(zheng)。

　　測(ce)量時根據果園(yuan)的大(da)小(xiao)。分別(bie)設(she)置3-5個測(ce)量點(dian)，在每(mei)個測(ce)量點(dian)再分別(bie)用(yong)方(fang)框取(qu)樣(yang)法(fa)和冠層分析法測(ce)量葉面(mian)積指(zhi)數(shu)。方(fang)框取(qu)樣(yang)法(fa)是(shi)將(jiang)方框隨機(ji)放(fang)在樹冠(guan)上，將(jiang)方框內(nei)的的葉片(pian)全部(bu)摘(zhai)下(xia)，用葉面(mian)積儀測(ce)量框內(nei)的葉面(mian)積，然(ran)後(hou)根據樹冠(guan)體積和栽(zai)植密度計算(suan)葉面(mian)積指(zhi)數(shu)。測(ce)點的(de)選(xuan)擇與冠層分析儀方法(fa)相(xiang)同(tong)。

　　冠層(ceng)分析儀是(shi)分別(bie)對(dui)應(ying)測(ce)量天(tian)空5個(ge)範圍(wei)的(de)散(san)射輻(fu)射，這5個(ge)範圍(wei)的(de)中(zhong)心(xin)視天頂(ding)角(jiao)分別(bie)為7°、23°、38°、53°和68°，分別(bie)與(yu)冠(guan)層(ceng)上部(bu)和下(xia)部(bu)測(ce)量輻(fu)射通透密度，並(bing)根據轉(zhuan)換(huan)模型(xing)估(gu)算(suan)葉面(mian)積指(zhi)數(shu)。在每(mei)壹個(ge)測(ce)點的(de)冠層(ceng)頂部(bu)測(ce)壹次(ci)，下(xia)部(bu)重復測(ce)量6-10次(ci)，冠(guan)層下(xia)方的測(ce)量在同(tong)壹水(shui)平(ping)面(mian)上，且在無(wu)直接輻(fu)射的條(tiao)件(jian)下(xia)進(jin)行。為了避免光環(huan)境(jing)迅(xun)速(su)的(de)變化(hua)對(dui)測(ce)量結果的(de)影(ying)響，選(xuan)擇無(wu)直接輻(fu)射的條(tiao)件(jian)下(xia)進(jin)行，然(ran)後(hou)用冠(guan)層分析儀附(fu)帶(dai)的軟(ruan)件(jian)對(dui)測(ce)量的(de)資料進(jin)壹步(bu)加工以校(xiao)正(zheng)估(gu)值葉面(mian)積指(zhi)數(shu)。