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Itrax Multiscanner 多用(yong)途X光(guang)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)系統
更新時(shi)間(jian)：2025-07-01
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Itrax Multiscanner多用(yong)途X光(guang)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)系統是(shi)利用XRF（X光(guang)熒(ying)光(guang)特(te)性）和(he)X光(guang)照(zhao)相(xiang)技術(shu)獲(huo)得(de)高(gao)精(jing)度數(shu)碼圖像的(de)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)設備(bei)。該(gai)系統利用X光(guang)透(tou)射(she)成像能夠獲(huo)得(de)檢測樣(yang)品的(de)密(mi)度圖像，進行(xing)年輪(lun)分(fen)析(xi)；利用XRF掃(sao)描(miao)檢(jian)測多種(zhong)元(yuan)素(su)含量，其中(zhong)鉀、鈣等(deng)元素(su)含量圖像還可輔(fu)助(zhu)識(shi)別(bie)不(bu)清(qing)晰(xi)的(de)年輪(lun)。
壹、原(yuan)理(li)
Itrax Multiscanner多用(yong)途X光(guang)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)系統是(shi)利用XRF（X光(guang)熒(ying)光(guang)特(te)性）和(he)X光(guang)照(zhao)相(xiang)技術(shu)獲(huo)得(de)高(gao)精(jing)度數(shu)碼圖像
的(de)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)設備(bei)。該(gai)系統利用X光(guang)透(tou)射(she)成像能夠獲(huo)得(de)檢測樣(yang)品的(de)密(mi)度圖像，進行(xing)年輪(lun)分(fen)析(xi)；利用XRF掃(sao)描(miao)檢(jian)測多種(zhong)元(yuan)素(su)含量，其中(zhong)鉀、鈣等(deng)元素(su)含量圖像還可輔(fu)助(zhu)識(shi)別(bie)不(bu)清(qing)晰(xi)的(de)年輪(lun)。
的(de)掃(sao)描(miao)分(fen)析(xi)設備(bei)。該(gai)系統利用X光(guang)透(tou)射(she)成像能夠獲(huo)得(de)檢測樣(yang)品的(de)密(mi)度圖像，進行(xing)年輪(lun)分(fen)析(xi)；利用XRF掃(sao)描(miao)檢(jian)測多種(zhong)元(yuan)素(su)含量，其中(zhong)鉀、鈣等(deng)元素(su)含量圖像還可輔(fu)助(zhu)識(shi)別(bie)不(bu)清(qing)晰(xi)的(de)年輪(lun)。二(er)、用途：
1. 密(mi)度分(fen)析(xi)
2. 顯(xian)微照(zhao)相(xiang)
3. 多種(zhong)痕(hen)量元素(su)分(fen)析(xi)，Mg、Al、Si、S、Cl、K、Ca、Ti、Ba、V、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Br、Rb、Sr、Pb等
4. 可(ke)用於(yu)不(bu)同(tong)材料(liao)分(fen)析(xi)，如木(mu)材、洞(dong)穴(xue)堆(dui)積物(wu)（如(ru)鐘(zhong)乳(ru)石），泥炭塊、巖(yan)心(xin)、沈積(ji)物(wu)等(deng)
三、特(te)點：
1. 數(shu)據質(zhi)量高(gao)
2. X光(guang)照(zhao)相(xiang)速(su)度快
3. 可(ke)分(fen)析(xi)元素(su)種(zhong)類(lei)多
4. 集(ji)光(guang)學(xue)成像、數(shu)碼X射(she)線顯(xian)微照(zhao)相(xiang)和(he)XRF分(fen)析(xi)於壹(yi)體(ti)
5. 儀(yi)器使(shi)用方(fang)便(bian)，能夠在無(wu)人值守的(de)情(qing)況(kuang)下(xia)實(shi)現(xian)復(fu)雜(za)的(de)取樣(yang)工(gong)作
6. 可(ke)用於(yu)多種(zhong)形(xing)式(shi)的(de)樣(yang)品，包括(kuo)木(mu)條(tiao)、樹木(mu)圓(yuan)盤、木(mu)制板材
四、技術(shu)指標
1. 分(fen)辨(bian)率：X光(guang)照(zhao)相(xiang)：20~200μm可選
XRF：50~200μm可(ke)選
XRF：50~200μm可(ke)選
2. 掃(sao)描(miao)寬(kuan)度：X光(guang)照(zhao)相(xiang)：20mm
XRF：2mm
XRF：2mm
3. 掃(sao)描(miao)速(su)度：X光(guang)照(zhao)相(xiang)：精(jing)度為20μm時(shi)每10cm需8分(fen)鐘(zhong)
XRF：精(jing)度為100μm時(shi)每10cm需3小(xiao)時
XRF：精(jing)度為100μm時(shi)每10cm需3小(xiao)時
4. 樣(yang)品規格(ge)：直徑小(xiao)於280mm，厚(hou)度1~15mm（可選更(geng)厚(hou)）
樣(yang)品固定(ding)盤(pan)可(ke)固定(ding)9條(tiao)長(chang)不(bu)大於(yu)280mm，寬(kuan)7-15mm
的(de)條(tiao)狀樣(yang)品
樣(yang)品固定(ding)盤(pan)可(ke)固定(ding)9條(tiao)長(chang)不(bu)大於(yu)280mm，寬(kuan)7-15mm
的(de)條(tiao)狀樣(yang)品
5. 操(cao)作(zuo)臺：780×800×1600 mm（長(chang)×寬×高(gao)），防塵(chen)、放(fang)輻(fu)射(she)
五、組成：
1. X光(guang)發生(sheng)系統
2. 標準LEF型X光(guang)顯(xian)像管(guan)
3. PolyflatTM扁(bian)平X光(guang)束光(guang)學(xue)系統。
4. 可調(tiao)X光(guang)束準(zhun)直儀(yi)
5. 300×200 mm X/Y可(ke)移(yi)動(dong)電(dian)腦(nao)控制臺
6. 線(xian)性排(pai)列(lie)的(de)感應原(yuan)件
7. 密(mi)度校準(zhun)塑料(liao)楔(xie)
8. 操(cao)作(zuo)臺
9. 樣(yang)品固定(ding)盤(pan)
10. 計(ji)算(suan)機
11. 平板掃(sao)描(miao)儀(yi)
12. 系統用戶(hu)軟(ruan)件
13. 紙(zhi)版用(yong)戶(hu)手(shou)冊(ce)
六、產(chan)地：歐洲
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